王占杰单位：中国科学院金属研究所地址：沈阳市沈河区文化路72号邮编：110016电话：024-23971546个人简历 Personal resume1983年毕业于沈阳工业大学金属材料科学与工程系，1988年在沈阳工业大学获硕士学位，1993年10月赴日本东京大学留学，1997年3月获工学博士学位。1997年7月至1998年1月以博士后身份在日本东北大学从事晶界工程学及其在提高多晶硅电学性能中的应用等方面的研究工作。1998年2月到日本国家产业技术综合研究所工作，主要从事铁电氧化物薄膜的制备、评价及其在微机电系统中的应用方面的研究。2000年6月转职到日本东北大学，先后作为讲师、副教授在日本东北大学材料系从事教学、科研工作；在此期间，主要从事铁电、介电、压电、导电等功能薄膜材料的制备与评价方面的研究工作，作为项目负责人承担了多项由日本学术振兴会和池谷科学技术振兴财团等资助的基础研究课题。2007年底入选中国科学院“百人计划”到中国科学院金属研究所工作。自2008年回国承担“百人计划”项目以来，继续从事铁电、介电、导电和磁性等功能薄膜材料的制备与评价方面的研究工作。研究方向 Research direction1、微波加热在功能薄膜材料制备中的应用2、铁电、介电和导电等氧化物薄膜的微结构与性能3、新型纳米复合薄膜材料的制备与评价；化学溶液沉积、激光脉冲沉积和磁控溅射沉积等方法的薄膜功能材料的制备
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发表于 2019-7-31 06:05:24
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